专利名称:一种用于MOCVD反应器的支撑轴及MOCVD反应
器
专利类型:发明专利发明人:魏唯,罗才旺,陈特超申请号:CN201310338182.9申请日:20130806公开号:CN103436862A公开日:20131211
摘要:本发明公开了一种用于MOCVD反应器的支撑轴及MOCVD反应器。为了克服现有的支撑轴导热系数大,载片盘往支撑轴传热量大,导致内圈加热器的功率利用率低,内圈加热的表面载荷高、支撑轴下方的冷却需求高的问题,所述用于MOCVD反应器的支撑轴包括用于支撑轴底部、支撑轴中部和支撑轴顶部;所述支撑轴顶部、支撑轴中部和支撑轴底部之间固定相连,且支撑轴底部、支撑轴中部和支撑轴底部之间连通有过气通道;所述支撑轴顶部呈锥台形,该支撑轴顶部装有连接环,连接环顶部装有固定盖板,所述固定盖板顶部装有隔热盖板。本发明提高了内圈加热器的使用寿命,延长了设备正常工作时长,并且减少了整机功率,提升了节能效果。
申请人:中国电子科技集团公司第四十八研究所
地址:410111 湖南沙市天心区新开铺路1025号
国籍:CN
代理机构:长沙正奇专利事务所有限责任公司
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