专利名称：下层膜形成用组合物及图案形成方法专利类型：发明专利
发明人：能村仲笃,今野洋助,杉田光,高桥纯一申请号：CN200780014538.6申请日：20070314公开号：CN101427183A公开日：20090506
摘要：本发明提供一种下层膜形成用组合物，其中，含有具有下述通式(1)所示的萘衍生物结构单元的聚合物(A)，通式(1)中，R表示羟基等，X表示碳原子数为1～20的可以取代的亚烷基等，n是0～6的整数，m是1～8的整数，n+m是1～8的整数，多个R和X可以相同也可以不同。
申请人：JSR株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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