专利名称:下层膜形成用组合物及图案形成方法专利类型:发明专利
发明人:能村仲笃,今野洋助,杉田光,高桥纯一申请号:CN200780014538.6申请日:20070314公开号:CN101427183A公开日:20090506
摘要:本发明提供一种下层膜形成用组合物,其中,含有具有下述通式(1)所示的萘衍生物结构单元的聚合物(A),通式(1)中,R表示羟基等,X表示碳原子数为1~20的可以取代的亚烷基等,n是0~6的整数,m是1~8的整数,n+m是1~8的整数,多个R和X可以相同也可以不同。
申请人:JSR株式会社
地址:日本东京都
国籍:JP
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
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