专利名称：靶装置和同位素或中子产生装置专利类型：实用新型专利发明人：杨磊,张学智,高笑菲,张晟申请号：CN201720790798.3申请日：20170630公开号：CN207337949U公开日：20180508
摘要：本实用新型的实施例提供了靶装置和具有该靶装置的同位素或中子产生装置。靶装置包括：壳体，在该壳体中形成反应腔室；至少一部分设置在反应腔室中的靶体；以及形成在壳体中的排放孔，该排放孔用于从反应腔室至少排出汽化的靶体的靶材料。利用靶装置产生同位素或中子的方法包括通过排放孔从反应腔室排出汽化的靶体的靶材料。由此例如可以改善对靶装置的冷却效果。
申请人：中国科学院近代物理研究所
地址：730000 甘肃省兰州市城关区南昌路509号
国籍：CN
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：张成新
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