专利名称：恶嗪化合物、组合物及固化物专利类型：发明专利
发明人：大津理人,下野智弘,有田和郎,山口纯司申请号：CN201680074255.X申请日：20161108公开号：CN108368069A公开日：20180803
摘要：本发明通过提供以具有芳香环结构和多个特定的具有碳‑碳间双键结构的基团为特征的恶嗪化合物来解决问题。另外本发明还提供含有本发明的恶嗪化合物的组合物、含有该组合物的固化物、具有该固化物层的层叠体。另外，本发明通过提供以包含含有本发明的恶嗪化合物的组合物为特征的耐热材料用组合物、及电子材料用组合物来解决问题。
申请人：DIC株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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