透明导电膜的结构[实用新型专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：透明导电膜的结构专利类型：实用新型专利发明人：陈重贤

申请号：CN201620226784.4申请日：20160323公开号：CN2087386U公开日：20160817

摘要：本实用新型公开了一种透明导电膜的结构，包括：一PET基材；一涂布层，其通过涂布工艺附着于所述PET基材的表面；一氧化硅层，其通过溅镀工艺附着于所述涂布层之上；一金属化硅层，其通过溅镀工艺附着于所述氧化硅层之上；一ITO镀层，其通过溅镀工艺附着于所述金属化硅层之上。本实用新型所述透明导电膜的结构，在原有透明导电膜结构的基础上增加一个过渡的、具延展性的金属化硅层，来增加ITO镀层与低折射率层的接合力，从而提升整体透明导电膜的耐弯折性。

申请人：苏州东山精密制造股份有限公司

地址：215000 江苏省苏州市吴中区东山上湾村

国籍：CN

代理机构：北京同恒源知识产权代理有限公司

代理人：刘宪池

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