光学邻近修正方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201510005960.1 （22）申请日 2015.01.06

（71）申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司

地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张江路18号

（10）申请公布号 CN105824187A

（43）申请公布日 2016.08.03

（72）发明人 王兴荣;张迎春

（74）专利代理机构 上海申新律师事务所

代理人 俞涤炯

（51）Int.CI

G03F1/36;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

光学邻近修正方法

（57）摘要

本发明公开了一种光学邻近修正方法，通

过在对待校正图形执行第一光学邻近修正获得第一校正图形后，采用从制程所对应的工艺窗口模型中所选择的具有最大间距值的模型和具有最小线宽值的模型对第一校正图形进行校验，确定易偏离点，并对该易偏离点进行目标修正后，执行第二光学邻近修正获得第二校正图形，并采用上述工艺窗口模型对该第二校正图形进行检验，在

光学邻近修正期间穿插对第一校正图形的修改，从而保障了易偏离点能够及时的发现和修正，减轻了后续光学邻近修正进行冗余运算的数据量，缩短了掩膜数据的运算时间，因无需额外重新确定光学邻近修正的目标图形进行循环修正，从而缩短了光学邻近修正的周期，进而提高了生产效率。

法律状态

法律状态公告日2016-08-03 2016-08-03 2016-08-31 2016-08-31 2020-03-24

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

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公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效 授权

权利要求说明书

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说明书

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