专利名称：介质处理装置专利类型：发明专利发明人：高桥弘章,大场正志申请号：CN201980062440.0申请日：20190917公开号：CN112753053A公开日：20210504
摘要：介质处理装置具备主体单元，该主体单元是对介质进行计数的主体单元，构成为能够与收容所述介质的至少一个介质处理单元连接。所述主体单元具有：多个电力供给线，其包括向所述至少一个介质处理单元供给电力的相互独立的第一电力供给线以及第二电力供给线；输出部，其向所述至少一个介质处理单元输出控制信号。
申请人：劳雷尔银行机械株式会社,劳雷尔机械株式会社,劳雷尔精机株式会社
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市柳沈律师事务所
代理人：谢辰
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